イオンプレーティング（英：Ion Plating）とは、イオン化した金属を被加工物に蒸着させる表面処理のこと。宇宙開発技術の一環として、アメリカで発明された技術である。いわゆる鍍金の一種である。従来の鍍金が被加工物を電解溶液に浸し、表面に異種金属の皮膜を重ねるのに対し、イオンプレーティングはプラズマにより金属が蒸発して周囲の反応性ガスと反応・化合して被加工物に蒸着させる。なお、従来の鍍金に比べると、密着性、表面耐久性、工程の安全性は飛躍的に向上している。蒸着金属、被加工物とともにあらゆる金属が用いられるが、よく用いられる金属としてチタンが挙げられる。表面処理が施されていない純チタンは表面硬度は低く、傷が付きやすいため、チタンの表面硬化処理としてショットブラストや本技術が用いられるが、本技術はプロセスの調整を行うことで装飾性のある表面処理が行え（後述）、腕時計外装など装飾性が必要となる製品の加工に用いられる。蒸着金属と反応性ガスの組み合わせを選択することにより、被加工物の表面にTiN, TiC、TiCN, ZrN等の硬化層が生成されるが、蒸着金属の種類やガスの濃度・混合比を調整することによりさまざまな性質や色調を得ることができる。また、さらに装飾性を高めるために、貴金属（金・銀・白金など）を蒸着させて硬化層の上に貴金属合金皮膜層を重ねることも行われる。

出典:wikipedia