真空装置（しんくうそうち）は、真空状態の持つ特性を利用した装置、機器である。真空装置はその目的を踏まえて基本仕様である真空システムを設計しなければならない。真空システムとは以下の構成要素に成り立っている。真空システムとして以上の5つが決まればそれに沿って真空装置を設計する。真空装置は大まかに言うと以下2つの要素を持つ。真空装置の種類はその目的により多岐にわたるが、基本的に4つの要素により構成される。あらかじめ設計された真空システムにのっとりこれらの要素の構成が決められる。これらの要素は様々な種類があるが、真空システムにより必要に応じて選択される。真空を利用した装置は多岐にわたる。真空冶金装置とは冶金を真空中で行うことである。真空中で冶金を行うことには以下のメリットがある。真空化学装置とは、化学反応および前後の操作を真空中で行う装置を示す。主な化学反応としては反応、分離、混合、冷却等があり、その化学反応のほとんどは、気体、液体、固体間の相変化を伴う。従って一般的にはエネルギー消費の多いプロセスである。真空薄膜形成・加工装置は真空中での性質や反応を利用した薄膜の形成およびその薄膜の加工を行う装置である。光学レンズやガラスへの薄膜からシリコンウェハーへの薄膜形成・加工、他MEMSや太陽電池の形成、FPDの製造など現在最も多く使用される真空装置である。表面分析装置で電子やその他の粒子（X線など）を利用した分析装置では大気分子による影響を排除するため真空中で行う物が多い。また、被測定物の表面の不純物や汚染物の除去のためにも真空にすることで排除することができるようになる。試験をおこなう装置でも真空中で行うものである。主に真空にすることで高温での試験や酸化を防ぐことができる。

出典:wikipedia